1. 기업 개요
DART 공시에 따르면 동사는 2005년 반도체 제조용 CVD-SiC 제품 생산을 목적으로 설립되었습니다. 반도체 웨이퍼 에칭공정용 SiC 포커싱 링 및 LED 제조용 SiC 코팅제품을 화학기상증착(CVD) 방식으로 생산하며, 메모리반도체업체를 주요 목표시장으로 비메모리 반도체 분야로의 확대를 추진하고 있습니다.
동사의 핵심 경쟁력은 CVD SiC 증착 및 가공기술과 CVD 증착 챔버 자체 개발 역량에 있습니다. 현재 시가총액은 3,098억원이며, 10년 최고가 대비 13.5% 하락한 수준에서 거래되고 있습니다.
2. 핵심 기술 및 사업 경쟁력
동사의 첫 번째 강점은 CVD SiC 증착 및 가공기술의 자체 보유입니다. 반도체 웨이퍼 에칭공정에서 포커싱 링의 역할은 공정 정밀도를 좌우하는 핵심 부품이며, 동사는 이 분야에서 메모리반도체 주요 업체들의 신뢰를 확보하고 있습니다.
동사의 두 번째 강점은 CVD 증착 챔버의 자체 개발 역량입니다. 장비 개발 능력은 제품 개선과 고객 맞춤형 솔루션 제공을 가능하게 하며, 이는 경쟁사 대비 차별화된 위치를 제공합니다.
동사의 세 번째 강점은 비메모리 반도체 분야로의 사업 확대 추진입니다. 현재 메모리반도체 시장 중심에서 벗어나 파워반도체, 화합물반도체 등 성장성 높은 분야로의 진출을 모색하고 있으며, 이는 장기 성장 동력으로 작용할 수 있습니다.