1. 기업 개요
DART 공시에 따르면 와이씨켐은 2001년 설립된 반도체 공정 재료 전문 기업입니다. 반도체 노광 공정용 포토레지스트, 현상액, 세정액과 후공정용 CMP Slurry, 유리 반도체 기판용 특수 폴리머 등을 개발·생산하고 있습니다.
주요 제품으로는 ArF·EUV 공정용 패턴 쓰러짐 방지 용액, KrF·i-Line 포토레지스트, TSV용 포토레지스트, 유리 반도체 기판용 유리코팅제와 포토레지스트가 있습니다. 2020년부터 2022년까지 경주 성주일반산업단지에 약 200억원을 투자하여 4,818평 규모의 생산 시설을 확보했으며, 이를 통해 노광 공정과 후공정 소재를 아우르는 토탈 솔루션 기업으로 진화하고 있습니다.
현재 시가총액은 약 2,768억원이며, 10년 최고가 대비 약 25.4% 하락한 수준입니다.
2. 핵심 기술 및 사업 경쟁력
와이씨켐의 첫 번째 강점은 반도체 공정 재료의 다변화입니다. 노광 공정(ArF, EUV, KrF, i-Line)부터 후공정(CMP, 세정, 에칭)까지 포괄적인 포트폴리오를 보유하고 있으며, 특히 EUV 공정용 현상액과 TSV용 포토레지스트 국산화를 통해 고부가가치 시장에 진입했습니다.
두 번째 강점은 차세대 메모리 시장 대응입니다. 고대역폭메모리(HBM) 시장의 성장에 맞춰 TSV용 포토레지스트를 국내 반도체 기업에 공급 중이며, 유리 반도체 기판용 특수 폴리머와 구리도금 공정용 포토레지스트를 개발 완료하여 향후 성장 동력을 확보했습니다.
세 번째 강점은 자체 생산 기반의 확충입니다. 성주 산업단지 신규 시설을 통해 Slurry와 Wet Chemical 소재의 생산능력을 대폭 확대했으며, 이는 공급 안정성과 마진율 개선으로 이어질 수 있습니다.