1. 기업 개요
DART 공시에 따르면 동사는 반도체 전공정 패턴 결함 검사 장비를 제조 및 판매하는 기업입니다. 웨이퍼 표면의 미세 결함을 검출하기 위해 전자선 검사 장비(E-beam Inspection System)와 광학 검사 장비(Optical Inspection System)를 생산하고 있습니다.
광학 검사 장비는 극자외선(DUV, 266nm), 자외선(UV, 355nm), 가시광선(400~600nm) 등 파장에 따라 세분화되며, 반사광을 이용한 Bright-field 검사와 산란광을 이용한 Dark-field 검사로 구분됩니다. Bright-field 장비는 나노미터급(15nm 이하) 미소 결함 검출이 가능하나 검사 속도가 느리고 가격이 높은 특징을 가지고 있으며, Dark-field 장비는 검사 속도가 빠르고 가격이 낮으나 검출 가능 결함 크기가 상대적으로 큰(약 30nm) 특징을 보입니다. 동사는 두 검사 방식을 한 장비 내에서 선택 가능하도록 구현하여 고객의 다양한 공정 요구에 대응하고 있습니다.
2. 핵심 기술 및 사업 경쟁력
동사의 첫 번째 강점은 극미세 결함 검출 기술입니다. 나노미터 수준의 미소 결함을 검출할 수 있는 고해상도 광학 검사 기술은 반도체 공정의 수율 향상에 직결되는 핵심 역량입니다. 사진 공정과 식각 공정에서 발생하는 패턴 결함을 정밀하게 포착하는 능력은 고객사의 생산 효율성을 크게 좌우합니다.
동사의 두 번째 강점은 유연한 검사 시스템 설계입니다. 단일 장비 내에서 Bright-field와 Dark-field 검사를 선택할 수 있도록 구현함으로써, 고객이 공정 특성과 경제성에 따라 최적의 검사 방식을 선택할 수 있는 유연성을 제공합니다. 이는 다양한 반도체 제조사의 서로 다른 공정 요구사항을 충족시키는 경쟁력으로 작용합니다.