1. 기업 개요
DART 공시에 따르면 동사는 2002년 설립된 반도체 건식 식각장비 제조업체입니다. 2018년 코스닥 상장 후 미국과 중국에 현지법인을 두고 있으며, 주력 제품은 300mm 실리콘 식각장비와 금속막 식각장비입니다. 동사는 SK하이닉스를 주요 고객으로 납품 중이며, 보유한 플라즈마 소스 기술을 다양한 플라즈마 공정장비에 적용하고 있습니다.
AI 등 신산업 발달로 반도체 수요가 증가하는 환경에서 동사는 고객 성장 지원을 위한 기술 개발과 시장 변화 대응에 주력하고 있습니다. 현재 시가총액은 약 2.4조원 규모입니다.
2. 핵심 기술 및 사업 경쟁력
동사의 첫 번째 강점은 플라즈마 소스 기술의 차별성입니다. 반도체 식각 공정에서 플라즈마 생성 및 제어 기술은 장비의 핵심 경쟁력을 결정하는데, 동사가 보유한 플라즈마 소스 기술은 다양한 공정장비에 적용 가능한 범용성을 갖추고 있습니다. 이는 고객의 공정 변화에 신속하게 대응할 수 있는 기술적 유연성을 제공합니다.
동사의 두 번째 강점은 SK하이닉스와의 장기 납품 관계입니다. 반도체 장비 산업은 고객 신뢰도가 매우 높은 시장이며, SK하이닉스 같은 대형 고객과의 안정적 거래는 기술 개발 투자와 사업 확장의 기초가 됩니다. 2024년 매출 206% 성장은 이러한 고객 기반의 강화를 반영하고 있습니다.
동사의 세 번째 강점은 AI 반도체 수요 증가에 따른 신규 공정 기회입니다. 고대역폭 메모리(HBM) 등 AI 칩 제조에 필요한 새로운 식각 공정이 증가하면서, 동사의 기술이 적용될 수 있는 시장 기회가 확대되고 있습니다.